隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，薄膜科學(xué)應(yīng)用日益廣泛。濺射法是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，濺射沉積薄膜的源材料即為靶材。用靶材濺射沉積的薄膜致密度高，附著性好。靶材的性能要求與制備工藝，凱澤金屬通過10多年的鈦靶、鋯靶、鎳靶等靶材生產(chǎn)經(jīng)驗，結(jié)合相關(guān)行業(yè)資料，整理如下：

1、靶材的性能要求

靶材制約著濺鍍薄膜的物理、力學(xué)性能，影響鍍膜質(zhì)量，因而靶材質(zhì)量評價較為嚴格，主要應(yīng)滿足如下要求；

1)雜質(zhì)含量低，純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。

2)高致密度。高致密度靶材具有導(dǎo)電、導(dǎo)熱性好、強度高等優(yōu)點，使用這種靶材鍍膜，濺射功率小，成膜速率高，薄膜不易開裂，靶材使用壽命長，而且濺鍍薄膜的電阻率低，透光率高。

3)成分與組織結(jié)構(gòu)均勻。靶材成分均勻是鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定的重要保證。

4)晶粒尺寸細小。靶的晶粒尺寸越細小，濺鍍薄膜的厚度分布越均勻，濺射速率越快。正因為靶材在性能上有上述諸多特殊要求，導(dǎo)致其制備工藝較為復(fù)雜。

2、靶材的制備工藝

目前制備靶材的方法主要有鑄造法和粉末冶金法。

鑄造法；將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金熔液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經(jīng)機械加工制成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優(yōu)點是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低，密度高，可大型化；缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。

粉末冶金法；將一定成分配比的合金原料熔煉，澆注成鑄錠后再粉碎，將粉碎形成的粉末經(jīng)等靜壓成形，再高溫?zé)Y(jié)，最終形成靶材。粉末冶金法的優(yōu)點是靶材成分均勻；缺點是密度低，雜質(zhì)含量高等。常用的粉末冶金工藝包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓等。

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