濺射鈦靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等。亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

信息存儲產(chǎn)業(yè)：隨著IT產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，世界對記錄介質(zhì)的需求量越來越大，記錄介質(zhì)用靶材研究與生產(chǎn)成為一大熱點(diǎn)，在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，使用濺射靶材制備的相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤、磁頭、光盤等，制造這些數(shù)據(jù)存儲產(chǎn)品，需要使用具有特殊結(jié)晶性與特殊成分的高品質(zhì)靶材。常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀 有金屬、介質(zhì)材料等。

集成電路產(chǎn)業(yè)：集成電路用靶材在全球靶材市場占較大份額，其濺射產(chǎn)品主要包括電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等，其中薄膜電阻器是薄膜混合集成電路中用量最多的元件，而電阻薄膜用靶材中Ni-Cr合金的用量很大。

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